چین اعلام کرده که در طراحی و ساخت تجهیزات تراشه‌سازی بومی خود، به یک موفقیت قابل توجه دست یافته و این امر، گامی اساسی جهت مقابله با تحریم‌های آمریکا به منظور ممانعت از دستیابی چین به اهداف صنعت نیمه‌رسانا به شمار می‌رود.
وزارت صنعت و فناوری اطلاعات چین در بیانیه‌ای که اخیراً منتشر شده، پیشنهاد کرده است که نهادهای دولتی از دستگاه‌های لیتوگرافی ایمرسیون مبتنی بر لیزر با دقت ۶۵ نانومتر یا بالاتر بهره‌برداری کنند. اگرچه این بیانیه به نام تأمین‌کننده اشاره‌ای نمی‌کند، اما مشخصات ارائه‌شده بیانگر پیشرفت ملموسی در مقایسه با تجهیزات بومی موجود است که توسط گروه تجهیزات میکرو الکترونیک شانگهای با دقت حدود ۹۰ نانومتر تولید شده بود.
تجهیزات تراشه‌سازی از جمله موانع کلیدی برای تحقق آرمان‌های چین در عرصه نیمه‌رسانا محسوب می‌شود که آمریکا درصدد کنترل آن‌هاست. شرکت‌هایی نظیر SMEE در حال طراحی ماشین‌آلاتی هستند که قادر به کوچک کردن فاصله با محصولات تولیدی شرکت‌هایی مانند ASML هلند هستند. دستاوردهایی که هفته گذشته وزارت صنعت و فناوری اطلاعات از آن‌ها سخن گفت، نشان‌دهنده پیشرفت رقبای بومی در زمینه تولید دستگاه‌های پیشرفته‌تر تراشه‌سازی است، هرچند هنوز فاصله زیادی با سطح شرکت ASML دارند.
شرکت ASML که بزرگترین تأمین‌کننده تجهیزات تولید تراشه در سطح بین‌الملل به شمار می‌رود، براثر لابی‌های صورت‌گرفته از سوی آمریکا با دولت هلند، از صدور پیشرفته‌ترین سیستم‌های لیتوگرافی خود به چین جلوگیری کرده است. آمریکا به منظور تضعیف پیشرفت چین در حوزه ابررایانه‌ها و هوش مصنوعی، در سال‌های ۲۰۲۲ و ۲۰۲۳ کنترل‌های صادراتی سختگیرانه‌ای را بر ارسال تراشه‌ها و تجهیزات تراشه‌سازی به این کشور وضع کرده است.
بر اساس گزارشی از بلومبرگ، تولیدکنندگان نیمه‌رسانای چینی به ندرت در مورد فناوری تراشه‌سازی خود سخن به میان می‌آوردند زیرا پکن این حوزه را به عنوان بخشی کلیدی از نظر امنیت ملی به حساب آورده است.